碩士班許少祺同學出席國際研討會 發表鋁合金抗電漿蝕刻研究成果

本系何主亮講座教授、謝秉諺助理教授於2026年3月2日至6日帶領三位碩士班學生許少祺、楊倬任、張勝洧同學前往日本名古屋 Meijo University參與第18屆國際先進電漿科學與其在氮化物奈米材料之應用研討會（ISPlasma 2026）暨第19屆電漿奈米科技國際研討會（IC PLANTS 2026），同行團隊成員還有工科院陳瑛鴻助理教授，與來自各國之研究團隊進行交流，深入了解電漿科學與奈米材料應用的最新研究趨勢。

會中，由許少祺同學進行論文「Enhancing Plasma Etching Resistance of Aluminum Alloy Using Composite Ceramic Coatings Prepared by Micro arc Oxidation」口頭發表，其研究聚焦於半導體乾式蝕刻製程中鋁合金零組件易因長時間暴露於含氟電漿環境而產生材料耗損與顆粒污染之問題，研究採用微弧氧化技術在鋁合金表面原位生成陶瓷氧化層，並進一步導入釔元素形成複合陶瓷塗層，以提升其抗電漿蝕刻能力。

許同學表示非常感謝何主亮老師研究團隊給予機會，讓他得以將研究成果帶上國際舞台，不僅深化研究能力，也拓展國際學術視野。